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ITO镀膜玻璃、薄膜激光刻蚀工艺优缺点对比

发布时间:2019-09-19 来源:元禄光电

ITO是一种N型的氧化物半导体,中文名为氧化铟锡,因为其导电性、透光率较好常用于玻璃或柔性材PET基材上的导电氧化物,用于触摸屏、光伏、冷光片、传感器、电致色玻璃、发光玻璃等行业。通常情况下利用平面磁控技术在玻璃或柔性PET等材料上溅射ITO材料,并通过高温退火处理得到ITO镀膜玻璃或薄膜材料。

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ITO导电玻璃

ITO镀膜玻璃或薄膜原材料由于是一整块都是ITO材料,应用到触控面板、显示面板、太阳能电池、微电子、光电子等领域中就需要对其进行加工,形成特定线路图,而对ITO材料的初加工工艺成了关键环节。

 

ITO镀膜玻璃或薄膜的材料线路成型加工主要有黄光曝光、化学蚀刻、等离子蚀刻以及激光刻蚀设备。

 

黄光曝光加工效果好,速度快,缺点是需要用到掩膜版,ITO线路要求有的多达数千种,每一种都需要掩膜版,这对设计加工的成本太高,就是存储也会浪费大量的空间,因此黄光曝光工艺目前只保留在特殊要求领域中使用。

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黄光曝光设备(图片源自网络)

化学蚀刻加工速度高,效果好,缺点是大量的化学试剂对人体和环境会造成污染,特别是在当今社会中人与自然的协调愈加重要,环境问题已加以限制,并控制在一定范围内。当然化学蚀刻也有技术工艺缺点随着下游产品对ITO镀膜材料的要求越来越高,超细线宽的ITO材料化学蚀刻工艺已感到力不从心。

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化学刻蚀设备(图片源自网络)

等离子蚀刻效果和速度都非常理想,不过工艺流程较为复杂,洒家也不太明白具体的工艺流程,想想晶圆的制作流程,想来大家也知道了其复杂程度。不过相比较于ITO镀膜材料的加工,等离子蚀刻设备还是小儿科了,很容易实现,也有简易版的适用于ITO材料,相比较而言等离子刻蚀的成本相对较高。

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等离子刻蚀设备(图片源自网络)

激光刻蚀设备是目前的主流ITO刻蚀工艺,适用于柔性pet以及玻璃上的导电ITO激光刻蚀,优点是工艺流程简单,导入CAD图纸即可相机自动定位加工,一次性成型,对环境无污染,无掩膜版,只用消耗电力,并且易于自动化,加工尺寸可超过3m以上,优势显而易见。目前ITO材料刻蚀的线宽要求越来越高,传统的纳秒红外激光刻蚀机的最小线宽只能做到20微米,而随着激光技术的进步,ITO材料刻蚀最小线宽可做到10微米以下,可保持与ITO材料应用行业需求的发展同步。

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ITO激光刻蚀设备

 

ITO镀膜玻璃、薄膜刻蚀工艺是太阳能电池、触摸屏、光电子等行业领域中重要工艺环节,要保证生产效率、生产成本、环境保护,ITO激光刻蚀机必不可少,武汉元禄光电专业生产激光刻蚀设备,拥有丰富的经验、过硬的技术,欢迎大家前来洽谈了解。

 

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